Pokonali ostatnią przeszkodę. Czas na masową produkcję EUV
14 lipca 2017, 13:21Trwało to dłużej i kosztowało więcej, niż ktokolwiek się spodziewał, ale w końcu prace nad litografią w ekstremalnie dalekim ultrafiolecie (EUV) mają się ku końcowi. Podczas targów Semicon West holenderska firma ASML ogłosiła, że udało się jej stworzyć 250-watowe źródło światła dla EUV
Klejenie komórek macierzystych
31 października 2008, 23:37Zastosowanie prostej procedury umożliwia aktywizację komórek macierzystych i ułatwia ich dostarczenie do tkanek, w których są potrzebne. Odkrycie może stać się istotnym udoskonaleniem wielu innych technik związanych z wykorzystaniem tych niezwykłych komórek.
10 nanometrów w zanurzeniu
13 września 2012, 09:44Intel poinformował, że jest w stanie wykorzystać litografię zanurzeniową do produkcji układów scalonych w 10-nanometrowym procesie technologicznym. Wykorzystujące go układy zadebiutują nie wcześniej niż w 2015 roku.
Sprawa seryjnego mordercy: bazy DNA pozwalają na zidentyfikowanie 60% białych w USA
15 października 2018, 09:01Ujęcie seryjnego mordercy nazwanego przez prasę Golden State Killer pokazało, jak przydatnymi narzędziami w rękach policji mogą być ogólnodostępne bazy danych genealogicznych, w których obywatele dobrowolnie pozostawiają próbki DNA. Teraz analizy przeprowadzone przez naukowców wykazały, że już za kilka lat – przynajmniej w USA – przed śledczymi nie ukryje się nikt, kto pozostawił na miejscu przestępstwa swój ślad genetyczny.
Chronicznie zmęczeni przez wirusa?
9 października 2009, 04:48Amerykańscy naukowcy zidentyfikowali możliwą przyczynę tzw. syndromu chronicznego zmęczenia (CFS), tajemniczej choroby objawiającej się, oprócz uporczywego uczucia przemęczenia, m.in. nawracającym bólem stawów i głowy. Jest nią retrowirus, którego nosicielstwo u osób cierpiących na tę przypadłość jest niemal 20-krotnie częstsze, niż u osób zdrowych.
Połowa producentów półprzewodników zniknie z rynku?
10 grudnia 2012, 14:50Odchodzący prezes Intela Paul Otellini przewiduje spore zmiany na rynku producentów układów scalonych. Jego zdaniem, nieuniknione w przyszłości przejście na proces produkcyjny wykorzystujący 450-miliometrowe plastry krzemowe będzie wiązał się ze zniknięciem połowy obecnych producentów
Aktywne mikrocząstki z oddziaływaniami sterowanymi zewnętrznym oświetleniem
4 czerwca 2020, 11:52Badacze z Wydziału Fizyki Uniwersytetu Warszawskiego, ETH w Zurychu i Uniwersytetu w Cambridge zademonstrowali aktywne mikrocząstki poruszające się w płynie pod wpływem zewnętrznego oświetlenia, których kierunek ruchu zależy od długości fali padającego światła. Wyniki badań opublikowano w prestiżowym czasopiśmie naukowym Nature Communications.
Nowy fotorezyst dla technologii 20 nanometrów
17 listopada 2009, 12:53Toshiba poinformowała o opracowaniu fotorezystu, który współpracuje z litografią w ekstremalnie dalekim ultrafiolecie (EUV) i jest pierwszym nadającym się do wykorzystania w 20-nanometrowym procesie produkcyjnym.
Nadchodzi epoka EUV
25 listopada 2014, 10:55ASML, największy na świecie producent urządzeń do wytwarzania układów scalonych, zapowiedział, że w 2016 roku rozpocznie sprzedaż maszyn do litografii w dalekim ultrafiolecie (EUV) gotowych do seryjnej produkcji układów scalonych.
Tajemnicze morderstwo na szczytach brytyjskiej władzy. Wiemy, kto zabił „książęta z Tower”
13 lutego 2021, 09:05Badania profesora Tima Thorntona z University of Huddresfield przybliżają nas do wyjaśnienia jednej z największych tajemnic brytyjskiej monarchii – zniknięcia małoletniego króla Edwarda V i jego młodszego brata, księcia Yorku, Richarda of Shrewsbury. Do ponownego zainteresowania ich losem przyczyniło się odnalezienie zwłok króla Ryszarda III
